产品极紫外光刻机 / EUV lithography machine
EUV光刻机
利用波长13.5纳米的极紫外光在硅片上刻画电路的高端光刻设备，由ASML独家供应，是制造7纳米以下先进制程芯片的核心设备。
时间轴 (近 90 天)
10月14日
单台EUV设备包含逾十万个精密零件，重达180吨，造价约1.5亿至3.5亿美元。
待验证50%
9月10日
ASML的EUV极紫外光刻机单台售价超过3亿美元，重量超过150吨，需要40个集装箱运输
待验证50%
利用波长13.5纳米的极紫外光在硅片上刻画电路的高端光刻设备，由ASML独家供应，是制造7纳米以下先进制程芯片的核心设备。
单台EUV设备包含逾十万个精密零件，重达180吨，造价约1.5亿至3.5亿美元。
ASML的EUV极紫外光刻机单台售价超过3亿美元，重量超过150吨，需要40个集装箱运输