待验证50% 置信权衡取舍精确时间

相较于DUV或EUV光刻，NIL无需昂贵光学系统、设备成本较低、可处理大面积基板，并能实现亚10纳米级别的图案分辨率

1

来源数

50%

置信度

长期有效

时效性

2026/9/22

首次发现

来源

Morphotonics获4000万欧元融资，显示技术切入数据中心赛道

涉及实体

纳米压印光刻technology DUVtechnology EUVtechnology

相关事实

待验证纳米压印光刻的分辨率不受光波长限制，理论上可实现亚10纳米级精度74% 相似待验证EUV技术使用13.5纳米波长光源，相较传统DUV(193纳米)可在单次曝光实现更精细图案转移，是7nm以下先进制程量产的关键技术68% 相似

引用此条事实

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https://kongchang.com/claim/940200

API

curl https://kongchang.com/api/v1/knowledge/claims/940200

MCP

get_claim(id=940200)